光刻膠黏劑光刻工藝是一種表面加工技術，即在基片表面實現選擇性的腐蝕。它是進行微細圖形加工、制造半導體器件、集成電路以及印刷電路板的一項關鍵工藝。
光刻工藝是一種感光性樹脂材料作為抗蝕涂層。這類感光樹脂材料在光照（主要是紫外光）時，短時間內既能發生光化學反應，使得這類材料的溶解性、熔融性或親和性在曝光后發生明顯的變化，利用這些能在曝光前后發生的明顯差別，只要控制光照的區域就可得到所需幾何圖形的保護。這種作為抗蝕涂層用的感光樹脂材料稱為光刻膠黏劑或者光致抗蝕劑。
按照光化學反映原理和顯影原理，光刻膠黏劑分為正型和負型兩大類，正型光刻經曝光后發生分解反應，分解為可溶解性物質；負型光刻膠經曝光后則發生聚合或者交聯反映，生成不可溶性物質。按曝光光源光刻膠黏劑可以分為：紫外光刻膠黏劑、遠紫外光刻膠黏劑、電子束光刻膠黏劑、X射線光刻膠黏劑和離子束光刻膠黏劑。商品光刻膠黏劑和離子束光刻膠黏劑。商品光刻膠黏劑一般由三部分組成：1、光敏性樹脂或光敏性的樹脂體系；2、增感性；3、溶劑。
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